FTIR傅立葉紅外應(yīng)用
傅立葉紅外技術(shù)可以快速、靈敏、無損地分析硅材料中的碳、氧含量，因此它在硅材料質(zhì)量控制領(lǐng)域被廣泛接受和應(yīng)用。布魯克在這個前沿領(lǐng)域擁有和積累了幾十年的經(jīng)驗，并結(jié)合布魯克VERTEX 系列傅立葉紅外光譜儀推出了業(yè)內(nèi)專業(yè)的完整分析方案。
用于超高靈敏度硅材料質(zhì)量控制分析的分析儀
CryoSAS 是一款低溫硅材料分析儀，可用于太陽 能和電子硅行業(yè)的高靈敏度質(zhì)量控制。它可以同時定量分析碳、氧以及淺層雜質(zhì)（如硼、磷、砷等）。
根據(jù)ASTM/SEMI標(biāo)準(zhǔn)，CryoSAS操作簡便，無需液氦等制冷劑。相比于傳統(tǒng)的濕化學(xué)分析法，CryoSAS更為快速、靈敏，并且對樣品沒有任何損害。
- 對單晶硅中所含的第三、五族雜質(zhì)（硼、磷、砷、鋁、鎵、銻） 的定量分析，檢出限達(dá)ppta量級。
- 多晶或單晶硅中代位碳的定量分析，檢出限達(dá)ppba量級。
- 多晶或單晶硅中間隙氧的定量分析，檢出限達(dá)ppba量級。
- 全自動檢測流程，自動分析數(shù)據(jù)、自動生成檢測報告。
用于硅材料質(zhì)量控制的低溫光致發(fā)光實驗
根據(jù)ASTM/SEMI MF1389標(biāo)準(zhǔn)，低溫近紅外光致發(fā)光（PL）實驗可以用于單晶硅中淺層雜質(zhì)（如硼、磷等）的定量分析。
我們將高靈敏度VERTEX 80 傅立葉變換光譜儀和專為硅材料低溫光致發(fā)光實驗 設(shè)計的低溫恒溫器相結(jié)合，實現(xiàn)了低檢出限小于1ppta的超高檢出水平。
- 根據(jù) ASTM/SEMI MF1389標(biāo)準(zhǔn)，定量分析單晶硅中的硼、磷和鋁含量。 用CVD方法制備的TCS（三氯硅烷）硅外延層也可進行PL實驗，以實現(xiàn)TCS的質(zhì)量控制。
- 多種附加功能，如自動控制恒溫器制冷、專用的PL硅材料QC軟件、標(biāo)準(zhǔn)建模樣品和第二個激 發(fā)激光。
用于科研和工業(yè)研發(fā)的近紅外光致發(fā)光模塊
對于半導(dǎo)體和光電行業(yè)來說，光致發(fā)光PL是在研發(fā)過程中重要的一個實驗工具。在紅外光譜范圍，傅立葉紅外光譜 儀比傳統(tǒng)色散型譜儀的靈敏度要高得多。與VERTEX 傅立葉紅外譜儀聯(lián)用的PLII 模塊提供了業(yè)內(nèi)靈活和強大的PL分 析方案。
- 可實現(xiàn)對塊狀樣品、量子阱和量子點樣品的PL分析，在 4000 cm-1 (< 2.5 μm)以上的光譜范圍具有超高靈敏度。
- 可添加第二個內(nèi)置激發(fā)激光，也可結(jié)合外置特殊激發(fā)激光 使用。
- 可選專用附件：掃描成像樣品臺，可攝像物鏡，恒溫器適配 器等。
用于科研和工業(yè)研發(fā)的中紅外光致發(fā)光模塊
在低于4000 cm-1 (>2.5μm)的光譜范圍，PL信號將受到大氣吸收以 及熱輻射背景的嚴(yán)重干擾。利用VERTEX 80v 真空型紅外光譜儀，并 結(jié)合專用的PL 真空模塊，可以徹底消除上述兩種因素的干擾，實現(xiàn) 4000 cm-1 至1000 cm-1 甚至更低光譜范圍的中紅外PL測量。
- 真空型傅立葉紅外光譜儀可以在中紅外譜區(qū)內(nèi) 實現(xiàn)對塊狀樣品、 量子阱和量子點樣品的PL分析，消除大氣的干擾，并可擴展至近紅 外PL。
- 先進的步進掃描功能結(jié)合調(diào)制技術(shù)可消除熱輻射背景的干擾。
- 可添加自動切換的光路，用于光調(diào)制反射和光調(diào)制透射實驗。
- 可選的恒溫器適配器和激發(fā)激光，可與外置特殊激光結(jié)合使用。
激光和LED發(fā)光，場致發(fā)光
傅立葉紅外光譜是用于分析激光、LED發(fā)光和場致發(fā)光的理想工具。VERTEX 系列光譜儀具備業(yè)內(nèi)高的光譜分辨率，可解析激光的精細(xì)結(jié)構(gòu)。VERTEX真空型光譜儀可以徹底消除來自大氣和 水汽的干擾。
- 表征連續(xù)激光、脈沖激光和LED光源，波數(shù)準(zhǔn)度業(yè)內(nèi)高
- 光譜分辨率高可達(dá)0.06 cm-1，為業(yè)內(nèi)高光譜分辨率
- 可時間分辨的光譜測量，分辨率高可達(dá)納秒量級。
檢測器測試和表征
VERTEX系列光譜儀可用于檢測和表征自主研發(fā)的紅外檢測器。單元件檢測器可以通過外部光學(xué)元件被適配連接至VERTEX譜儀的五個光路出口之一。對于FPA（焦平面陣列）檢測器，VERTEX 配有專用的向下或向前的檢測器測試模塊。
- 單元件檢測器的表征
- FPA檢測器的表征
- VERTEX具有多個光路出口，用于適配各種FPA檢測器測試模塊
鈍化層分析
鈍化層作為保護層、絕緣層或抗反射層，在半導(dǎo)體材料中扮演著重要的角色。VERTEX 系列光譜儀是分析鈍化層的理想工具，它可以實現(xiàn)快速靈敏的無損分析。
- 磷硅玻璃(PSG)和硼磷硅玻璃(BPSG)中硼和磷的定量分析
- 分析SiN等離子層和Si-O基鈍化層
- 分析超低K層
鈍化層分析
VERTEX 系列光譜儀可用于測量半導(dǎo)體層狀結(jié)構(gòu)中的層厚度，精度極高。此應(yīng)用是基于對紅外光
在層狀結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生的光干涉效應(yīng)的分析，可用于亞微米量級至毫米量級的厚度分析。
- 用反射或透射實驗分析層厚度。
- 專用的分析軟件，用于分析復(fù)雜的層狀結(jié)構(gòu)。
- 可選薄膜掃描成像附件，可測量直徑至12”的硅晶片。
硅晶片掃描成像
VERTEX 吹掃型光譜儀可聯(lián)接一個硅晶片掃描成像附件，用于直徑至12”的硅晶片的反射和透射 譜的自動化測量。掃描成像實驗可以結(jié)合各種分析手段，用于層厚度測量、BPSG層的定量分析和 其他多種參數(shù)的檢測。
- 適用于直徑至12”的硅晶片的反射和透射譜測量
- 自動進行層厚度計算或定量分析
- 可選適用于特殊形狀和尺寸的硅晶片的支架
砷化鎵中的雜質(zhì)分析
砷化鎵在半導(dǎo)體行業(yè)中的地位僅次于硅。VERTEX 系列譜儀與特殊附件以及恒溫器聯(lián)用，可對砷化鎵材料進行高靈敏度的雜質(zhì)成分分析。
- 室溫或低溫條件下，對砷化鎵中的碳含量分析
- 低溫條件下，對硼含量進行分析。對硼的同位素也同樣適用，靈敏度極高。
硅晶片ATR實驗: 硅表面超薄膜的高靈敏度分析
硅晶片ATR附件是VERTEX 系列光譜儀上一款獨特且強大的附件， 它可以對單晶硅表面超薄膜進行高靈敏度的分析。這個附件利 用了ATR（衰減全反射）的原理，將樣品本身視為ATR晶體，入射 的紅外光在樣品內(nèi)部可實現(xiàn)多次全反射，因此樣品表面超薄膜 的吸收信號得以大幅度地增強，實現(xiàn)超高靈敏度分析。
- 1500 cm-1以上對超薄k膜、SiN等離子膜、自組裝單分子膜等多種薄膜的分析
- 可分析納米量級的薄膜
- 硅晶片內(nèi)部多次全反射使信號大幅度增強
半導(dǎo)體研發(fā)領(lǐng)域的反射和透射實驗
傅立葉紅外反射和透射光譜是半導(dǎo)體研發(fā)領(lǐng)域中常用且非常強大的工具之一。
VERTEX 系列光譜儀具有業(yè)內(nèi)寬的光譜范圍（遠(yuǎn)紅外至紫外光區(qū)），適用于半導(dǎo)體領(lǐng)域的多種應(yīng)用。
- 研究聲子、能帶、激子、摻雜半導(dǎo)體、自由載流子、光電晶體和左手性材料。
- 寬的光譜范圍（遠(yuǎn)紅外至紫外光區(qū)），高的光譜分辨率（VERTEX80/80v可達(dá)0.06 cm-1 ，約7μeV）
- 樣品倉可添加低溫恒溫器，實現(xiàn)4K的低溫實驗。
應(yīng)有領(lǐng)域:
薄膜
紙
紙盒
鋁
紡織品
PVC 地板
膠帶
技術(shù)膜
光學(xué)膜
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